上海依肯机械设备有限公司广州办

专为实验室研发，模拟生产流程，为量产提供可靠的数据论证。该中试型型机器和大型量产机型配置相同，且分散头的种类及相应线速度也相同，中试过程中的工艺参数在量产化之后不要重新调整，而将机器型号升级过程中的风险降到zui低。50ML可以进行一批实验，如果需要打循环的话，500ML就可以循环，可以为超小型的实验提高设备支持，设备的处理量十分灵活。
               （公司有样机，可提供免费实验）

IKN实验室胶体磨、高速研磨分散机介绍

原理：实验室胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生 向下的螺旋冲击力，透过实验室胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

磨头处结构设计：沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下，而他们的斜齿的每个磨头的沟槽深度一样，流道体积是一样大，这样形成了本质的区别。我们可以保证物料从上往下一直在进行研磨，而他们只能在一级磨头到另外一级磨头形成研磨效果。

其具备什么特点呢？

①配有博格曼双机械密封，以及密封液压系统，因此虽然一款中试设备，但同样具有生产的可靠性。

IKN密封件为双端面集装式密封，耐压性好，超高转速下拥有优异的密封表现。配有压力平衡罐，充入适当压力可保证机封上下端面受力平衡，同时运转时可通过自身偏心 结构的带来的泵环效应和热虹吸效应实现冷却水的自动循环。该循环系统为独立系统，与外界无接触，平衡罐内冷却液可选纯化水或合适的溶剂，有效避免普通冷却 自来水压力不稳和含有少量颗粒杂质对机封带来的损坏。

上海依肯机械设备有限公司内有样机，可供购前实验，实验结果是检验设备优劣的wei一标准。欢迎您随时莅临我司交流、参观！如有需要，欢迎致电上海依肯销售林万翠  18201891183  QQ：2971036519

②专为实验及中试型机器配备的变频控制柜，不仅可以设定不同功能模块，显示温度，控制转速，还可以显示与功能模块相匹配的各项参数，可供量产作数据记录。

③PP2000/4为立式分体式结构，运行时间长，不易造成轴的偏心，容易更换，而且只要更换相应的皮带，一般的人员可以操作。立式分体结构，通过皮带传动，并实现加速，加速比为3：1，即正常50HZ频率下转速为7890RPM,外加变频可达13789RPM。。PP2000/4转子的直径为55mm(转速相较其它厂家2900转左右高出约三倍).

④具有非常高的剪切速度和剪切力，粒径约为0.2-2微米可以确保高速分散乳化的稳定性。该设备可以适用于各种分散乳化工艺，也可用于生产包括对乳状液,悬浮液和胶体的均质混合。高剪切分散乳化机由定/转子系统生的剪切力使得溶质转移速度增加，从而使单一分子和宏观分子媒介的分解加速。
 

实验室胶体磨的设备参数

设备等级：化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级

与guo内胶体磨相比优势在哪儿？

功率：guo内胶体磨设备材质一般为铁/304/316/316L 不锈钢，功率为1.1 KW

上海IKN设备的材质为316L不锈钢（食品级），功率为1.5/2.2/4 KW 对胶体磨而言，在很多场合下处理高粘度、大颗粒物料，所以一般选择比较大的功率电机。

转速：guo内胶体磨50HZ时转速一般为3000rpm

上海IKN设备在50HZ时设备转速高达7890/13789RPM ，可以通过变频调速，同时可通过皮带加速 依肯的轴承可以承受140000RPM(转速是他们的3-4倍，研磨的力度也是guo内胶体磨的3-4倍，这样研磨的细度更小)。

设备结构：guo内胶体磨设备的结构设计为三道磨碎区，一级为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三级为超微磨碎区，沟槽是直线，同级的沟槽深度一样

上海IKN设备的设备结构为三道磨碎区，一级为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三级为超微磨碎区，虽然都是三级结构，但是他们的设计不同理念不同，形状及齿列的结构，沟槽是曲线，上下深度不一，上深下浅，配置有金属碳化物或陶瓷涂层的锥型转子/定子，具有良好的粉碎效果，耐磨及耐腐蚀。

zui大线速度：zui内胶体磨设备能达到的zui大线速度大约在10-15M/S

                     在相同直径磨头下，上海IKN设备线速度可达

V= 3.14X0.055X7890/60=23 M/S

V=3.14X0.055X13789/60=40 M/S

zui大作用力：guo内胶体磨作用力大约在14293-215440 S-1

上海IKN设备的作用力为F=23/0.7X1000=32857 S-1 

F=40/0.7/X1000=57142 S-1

而对CMO模块头，磨头的间歇G理论可以无限小，但是由于高速的运转，造成轴的振动，需要一定的间歇，作用力可以无限大，但实际上比胶体磨要好。这是粉碎研磨的重要因素，相当于guo内胶体磨的2-3倍。

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